La serie RPJ se basa en una tecnología madura de generación de RF para ofrecer a los clientes fuentes de alimentación de RF con mayor potencia, mayor precisión y respuesta rápida. También cuenta con funciones como el ajuste de fase y el control de pulsos. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, manufactura, etc. Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD), grabado por plasma, limpieza por plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión por plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.