RF/sputterointivirtalähde

RHH-sarjan RF-virtalähde perustuu kehittyneeseen RF-generaattoriteknologiaan tarjotakseen asiakkaille suuremman tehon, tarkkuuden ja nopeamman vasteen omaavan RF-virtalähteen. Vaiheasetus, pulssiohjaus, digitaalinen viritys ja muita toimintoja. Sovellusalueet: aurinkosähköteollisuus, litteänäyttöteollisuus, puolijohdeteollisuus, kemianteollisuus, laboratoriot, tieteellinen tutkimus, valmistus jne.
Sovellettavat prosessit: plasmalla tehostettu kemiallinen höyrypinnoitus (PECVD), plasmaetsaus, plasman puhdistus, radiotaajuusionilähde, plasmadiffuusio, plasmapolymerointisputterointi, reaktiivinen sputterointi jne.

RLS-sarjan RF-virtalähde hyödyntää nykyistä vakaata ja luotettavaa tehovahvistinta ja yrityksen ydintä DC-ohjausjärjestelmää, joten tuotteella on erittäin vakaa suorituskyky ja korkea luotettavuus. Näyttöliittymä on kiinan- ja englanninkielinen ja helppokäyttöinen. Käytetään pääasiassa aurinkosähköteollisuudessa, litteiden näyttöjen teollisuudessa, puolijohdeteollisuudessa, kemianteollisuudessa, laboratorioissa, tieteellisessä tutkimuksessa, valmistuksessa jne.

Se voidaan sovittaa RLS-sarjan RF-virtalähteeseen, ja sitä käytetään laajalti plasmaetsauksessa, pinnoituksessa, plasmapuhdistuksessa, plasman limanpoistossa ja muissa prosesseissa. Yksinään käytettynä sitä voidaan käyttää yhdessä muiden valmistajien RF-virtalähteiden kanssa.

MSD-sarjan tasavirtasputterointivirtalähteessä käytetään yrityksen ydintä tasavirtaohjausjärjestelmää yhdistettynä erinomaiseen valokaaren prosessointijärjestelmään, minkä ansiosta tuotteella on erittäin vakaa suorituskyky, korkea luotettavuus, pienet valokaarivauriot ja hyvä prosessin toistettavuus. Näyttö on sekä kiinan- että englanninkielinen ja helppokäyttöinen.