Die RPJ-Serie stützt sich auf eine ausgereifte RF-Generationstechnologie und bietet Kunden RF-Netzgeräte mit größerer Leistung, höherer Präzision und schneller Reaktion. Das Gerät verfügt über Funktionen wie Phaseneinstellung und Impulssteuerung. Anwendungsbereiche: Photovoltaikindustrie, Flachbildschirmindustrie, Halbleiterindustrie, Chemieindustrie, Labore, wissenschaftliche Forschung, Fertigung usw. Geeignete Verfahren: plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD), Plasmaätzen, Plasmareinigung, RF-Ionenquelle, Plasmadiffusion, Plasmapolymersputtern, Reaktivsputtern usw.
● Fulldigital control, with convenient and rich operation menu
● Pulse and pulse synchronization functions
● Equipped with CEX phase synchronization function
● Improve protectionfunctions
| Input | |
| Input voltage | 3ΦAC208V ± 10%, 3ΦAC380V ± 5%, 47~63Hz |
| Output | |
| Output frequency | 13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz |
| Output power | 1.5kW~6kW |
| Output power regulation range | 1% ~ 100% |
| Output impedance | 50Ω +j0 |
| Output interface | N-type |
| Output mode | Continuous, pulse |
| Pulse frequency | 100Hz~20kHz |
| Duty cycle | 5%~95% |
| Performance index | |
| Power factor | 0.98 |
| Frequency stabilization accuracy | ±0.005% |
| Efficiency | 75% (At rated output) |
| Harmonic | <-45dBc |
| Spurious | <-50dBc |
| Control features | |
| External control interface | Analog, communication, synchronization |
| Communication mode | Standard configured RS485 communication interface, Ethernet CAT, industrial Ethernet can be extended. |
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