La fuente de alimentación RF de la serie RHH se apoya en una tecnología madura de generación RF para ofrecer a los clientes fuentes de alimentación RF con mayor potencia, mayor precisión y respuesta rápida. Cuenta con funciones como ajuste de fase, pulso controlable y sintonización digital, entre otras. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD), grabado por plasma, limpieza por plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión por plasma, pulverización por polimerización de plasma, pulverización reactiva, etc.