L'alimentation RF série RHH s'appuie sur une technologie mature de génération RF pour fournir aux clients une alimentation RF offrant une puissance plus élevée, une précision plus haute et une réponse rapide. Avec phase réglable, impulsion contrôlable, accord numérique et autres fonctions. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie de l'affichage à panneau plat, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoire, recherche scientifique, fabrication, etc.
Procédés applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure au plasma, nettoyage au plasma, source d'ions à radiofréquence, diffusion au plasma, pulvérisation par polymérisation plasma, pulvérisation réactive, etc.