Fornecemos geradores RF de alto desempenho, unidades de adaptação, alimentações CC e alimentações CC pulsadas para satisfazer diversas necessidades de processos de deposição, como CVD e PVD.

A gravação é uma etapa-chave na fabricação de semicondutores e exige precisão de controlo de plasma extremamente alta. A nossa tecnologia inovadora e única pode fornecer fontes de energia fiáveis para processos avançados.

À medida que os projetos de chips se tornam mais complexos, os requisitos para o controlo preciso da implantação iónica também aumentam. Os nossos produtos de alimentação garantem o controlo preciso da energia de implantação iónica com a sua alta densidade de potência e alta precisão.

Com o desenvolvimento de processos semicondutores avançados, as alimentações do processo de interligação enfrentam desafios e precisam de apresentar ripple ultrabaixo, saída de alta precisão e resposta dinâmica rápida para garantir a estabilidade e o rendimento do processo.

A etapa de remoção de fotorresiste é utilizada para eliminar o fotorresiste residual e evitar afetar a precisão da gravação, deposição ou implantação iónica subsequente. O controlo preciso de energia é crucial neste processo.