A fonte de alimentação RF série RHH depende de tecnologia madura de geração RF para fornecer aos clientes fontes de alimentação RF com maior potência, precisão superior e resposta rápida. Com funções como fase ajustável, pulso controlável, sintonia digital e outras. Campos de aplicação: indústria fotovoltaica, indústria de displays de painel plano, indústria de semicondutores, indústria química, laboratório, pesquisa científica, manufatura, etc.
Processos aplicáveis: deposição química de vapor por plasma (PECVD), gravação de plasma, limpeza de plasma, fonte de íons de radiofrequência, difusão de plasma, pulverização por polimerização de plasma, pulverização reativa, etc.
● Adopt full digital control, with convenient and rich operation menu
● Frequency tuning, pulse and pulse synchronization functions
● With CEX phase synchronization function
● Perfect protection function
Input | Input voltage: AC220V±10% 3ΦAC380V±5%(Special specifications can be customized) |
Input frequency: 47~63Hz | |
Output | Output frequency: 13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz |
Tuning range: ±5% | |
Output power: 1.5~5kW | |
Regulation range of output power: 1~100% | |
Output impedance: 50Ω+j0 | |
Output interface: type N | |
Output mode: continuous, pulse | |
Pulse frequency: 100Hz~100kHz | |
Duty cycle: 5~95% | |
Performance index | Power factor: 0.98 |
Frequency stability accuracy: ±0.005% | |
Efficiency: 75% (at rated output) | |
Harmonic: ＜-45dBc | |
Stray: ＜-50dBc | |
External control interface: analog quantity, communication and synchronization | |
Communication mode: Standard RS485 communication interface; Optional Ether CAT, industrial Ethernet, etc. |
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