A série RPJ baseia-se em tecnologia madura de geração de RF para oferecer aos clientes fontes de alimentação de RF com maior potência, maior precisão e resposta rápida. Possui funções como ajuste de fase e controle de pulso. Áreas de aplicação: indústria fotovoltaica, indústria de display de painel plano, indústria de semicondutores, indústria química, laboratórios, pesquisa científica, manufatura, etc. Processos aplicáveis: deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD), gravação por plasma, limpeza por plasma, fonte de íons de radiofrequência, difusão por plasma, pulverização catódica por polimerização de plasma, pulverização catódica reativa, etc.
● Fulldigital control, with convenient and rich operation menu
● Pulse and pulse synchronization functions
● Equipped with CEX phase synchronization function
● Improve protectionfunctions
| Input | |
| Input voltage | 3ΦAC208V ± 10%, 3ΦAC380V ± 5%, 47~63Hz |
| Output | |
| Output frequency | 13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz |
| Output power | 1.5kW~6kW |
| Output power regulation range | 1% ~ 100% |
| Output impedance | 50Ω +j0 |
| Output interface | N-type |
| Output mode | Continuous, pulse |
| Pulse frequency | 100Hz~20kHz |
| Duty cycle | 5%~95% |
| Performance index | |
| Power factor | 0.98 |
| Frequency stabilization accuracy | ±0.005% |
| Efficiency | 75% (At rated output) |
| Harmonic | <-45dBc |
| Spurious | <-50dBc |
| Control features | |
| External control interface | Analog, communication, synchronization |
| Communication mode | Standard configured RS485 communication interface, Ethernet CAT, industrial Ethernet can be extended. |
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