La série RPJ s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour fournir aux clients des alimentations RF de plus grande puissance, de précision supérieure et à réponse rapide. Elle dispose de fonctions telles que le réglage de phase et le contrôle des impulsions. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, fabrication, etc. Procédés applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure par plasma, nettoyage par plasma, source d'ions radiofréquence, diffusion par plasma, pulvérisation par polymérisation plasma, pulvérisation réactive, etc.