Font d'alimentació per pulverització catòdica

La font d'alimentació RF de la sèrie RLS adopta l'amplificador de potència estable i fiable actual i el sistema de control de CC principal de l'empresa, de manera que el producte té un rendiment molt estable i una alta fiabilitat del producte. Adopta una interfície de pantalla xinesa i anglesa, fàcil d'operar. S'utilitza principalment en la indústria fotovoltaica, la indústria de pantalles planes, la indústria dels semiconductors, la indústria química, el laboratori, la investigació científica, la fabricació, etc.

Es pot adaptar a la font d'alimentació de RF de la sèrie RLS i s'utilitza àmpliament en el gravat per plasma, el recobriment, la neteja per plasma, el desgomat per plasma i altres processos. Quan s'utilitza sol, es pot utilitzar juntament amb fonts d'alimentació de RF d'altres fabricants.

La font d'alimentació de pulverització catòdica de CC de la sèrie MSD adopta el sistema de control de CC principal de l'empresa combinat amb un excel·lent esquema de processament d'arc, de manera que el producte té un rendiment molt estable, una alta fiabilitat del producte, petits danys d'arc i una bona repetibilitat del procés. Adopta una interfície de pantalla en xinès i anglès, fàcil d'operar.