Font d'alimentació de RF/pulverització catòdica

La font d'alimentació de RF de la sèrie RHH es basa en una tecnologia de generació de RF madura per proporcionar als clients una font d'alimentació de RF amb més potència, més precisió i resposta ràpida. Amb la possibilitat de configurar la fase, controlar els polsos, ajustar digitalment i altres funcions. Camps aplicables: indústria fotovoltaica, indústria de pantalles planes, indústria de semiconductors, indústria química, laboratori, recerca científica, fabricació, etc.
Processos aplicables: deposició química de vapor millorada per plasma (PECVD), gravat per plasma, neteja per plasma, font d'ions de radiofreqüència, difusió de plasma, polvorització per polimerització per plasma, polvorització reactiva, etc.

La font d'alimentació RF de la sèrie RLS adopta l'amplificador de potència estable i fiable actual i el sistema de control de CC principal de l'empresa, de manera que el producte té un rendiment molt estable i una alta fiabilitat del producte. Adopta una interfície de pantalla xinesa i anglesa, fàcil d'operar. S'utilitza principalment en la indústria fotovoltaica, la indústria de pantalles planes, la indústria dels semiconductors, la indústria química, el laboratori, la investigació científica, la fabricació, etc.

Es pot adaptar a la font d'alimentació de RF de la sèrie RLS i s'utilitza àmpliament en el gravat per plasma, el recobriment, la neteja per plasma, el desgomat per plasma i altres processos. Quan s'utilitza sol, es pot utilitzar juntament amb fonts d'alimentació de RF d'altres fabricants.

La font d'alimentació de pulverització catòdica de CC de la sèrie MSD adopta el sistema de control de CC principal de l'empresa combinat amb un excel·lent esquema de processament d'arc, de manera que el producte té un rendiment molt estable, una alta fiabilitat del producte, petits danys d'arc i una bona repetibilitat del procés. Adopta una interfície de pantalla en xinès i anglès, fàcil d'operar.