Zasilacz RF/rozpylania

Zasilacze RF serii RHH wykorzystują zaawansowaną technologię generowania sygnału RF, aby zapewnić klientom zasilanie o większej mocy, wyższej precyzji i szybkiej reakcji. Z możliwością regulacji fazy, sterowaniem impulsowym, cyfrowym strojeniem i innymi funkcjami. Zastosowanie: przemysł fotowoltaiczny, przemysł wyświetlaczy płaskich, przemysł półprzewodników, przemysł chemiczny, laboratoria, badania naukowe, produkcja itp.
Zastosowane procesy: osadzanie chemiczne z fazy gazowej wspomagane plazmą (PECVD), trawienie plazmowe, czyszczenie plazmowe, źródła jonów o częstotliwości radiowej, dyfuzja plazmowa, rozpylanie polimeryzacyjne plazmowe, rozpylanie reaktywne itp.

Zasilacze RF serii RLS wykorzystują stabilny i niezawodny wzmacniacz mocy oraz firmowy system sterowania prądem stałym, co zapewnia stabilną pracę i wysoką niezawodność. Interfejs użytkownika w języku chińskim i angielskim jest łatwy w obsłudze. Zasilacze te są stosowane głównie w przemyśle fotowoltaicznym, wyświetlaczach LCD, półprzewodnikach, przemyśle chemicznym, laboratoriach, badaniach naukowych, produkcji itp.

Można go dostosować do zasilaczy RF serii RLS i jest szeroko stosowany w trawieniu plazmowym, powlekaniu, czyszczeniu plazmowym, odśluzowywaniu plazmowym i innych procesach. Używany samodzielnie, może być używany razem z zasilaczami RF innych producentów.

Zasilacze DC do rozpylania serii MSD wykorzystują firmowy system sterowania DC w połączeniu z doskonałym schematem przetwarzania łuku elektrycznego, co zapewnia bardzo stabilną pracę, wysoką niezawodność, niskie ryzyko uszkodzeń łuku elektrycznego i dobrą powtarzalność procesu. Wyposażone w chiński i angielski interfejs użytkownika, są łatwe w obsłudze.