Catu Daya RF/Sputtering

Catu daya RF seri RHH mengandalkan teknologi pembangkitan RF yang matang untuk menyediakan catu daya RF dengan daya lebih besar, presisi lebih tinggi, dan respons cepat kepada pelanggan. Dilengkapi dengan pengaturan fase, kontrol pulsa, penyetelan digital, dan fungsi lainnya. Bidang aplikasi: industri fotovoltaik, industri layar panel datar, industri semikonduktor, industri kimia, laboratorium, penelitian ilmiah, manufaktur, dll.
Proses yang dapat diaplikasikan: pengendapan uap kimia yang ditingkatkan plasma (PECVD), etsa plasma, pembersihan plasma, sumber ion frekuensi radio, difusi plasma, sputtering polimerisasi plasma, sputtering reaktif, dll.

Catu daya RF seri RLS menggunakan penguat daya yang stabil dan andal serta sistem kontrol DC inti perusahaan, sehingga produk memiliki kinerja yang sangat stabil dan keandalan produk yang tinggi. Meng采用 antarmuka tampilan bahasa Mandarin dan Inggris, mudah dioperasikan. Terutama digunakan dalam industri fotovoltaik, industri layar panel datar, industri semikonduktor, industri kimia, laboratorium, penelitian ilmiah, manufaktur, dll.

Perangkat ini dapat diadaptasikan ke catu daya RF seri RLS, dan banyak digunakan dalam proses etsa plasma, pelapisan, pembersihan plasma, penghilangan getah plasma, dan proses lainnya. Jika digunakan sendiri, perangkat ini dapat digunakan bersama dengan catu daya RF dari produsen lain.

Catu daya sputtering DC seri MSD mengadopsi sistem kontrol DC inti perusahaan yang dikombinasikan dengan skema pemrosesan busur yang unggul, sehingga produk memiliki kinerja yang sangat stabil, keandalan produk yang tinggi, kerusakan busur yang kecil, dan pengulangan proses yang baik. Meng采用 antarmuka tampilan bahasa Mandarin dan Inggris, mudah dioperasikan.