Fonte de alimentación de RF/catopografía catódica

A fonte de alimentación de RF da serie RHH baséase nunha tecnoloxía de xeración de RF madura para proporcionar aos clientes unha fonte de alimentación de RF con maior potencia, maior precisión e resposta rápida. Con fase que se pode configurar, pulsos controlables, sintonización dixital e outras funcións. Campos aplicables: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semicondutores, industria química, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mellorada por plasma (PECVD), gravado por plasma, limpeza por plasma, fonte de ións de radiofrecuencia, difusión por plasma, pulverización catódica por polimerización por plasma, pulverización catódica reactiva, etc.

A fonte de alimentación RF da serie RLS adopta o amplificador de potencia estable e fiable actual e o sistema de control de CC central da empresa, de xeito que o produto ten un rendemento moi estable e unha alta fiabilidade do produto. Adopta unha interface de visualización en chinés e inglés, fácil de operar. Úsase principalmente na industria fotovoltaica, na industria das pantallas planas, na industria dos semicondutores, na industria química, en laboratorios, na investigación científica, na fabricación, etc.

Pódese adaptar á fonte de alimentación RF da serie RLS e úsase amplamente en gravado por plasma, revestimento, limpeza por plasma, desgomado por plasma e outros procesos. Cando se usa só, pódese usar xunto con fontes de alimentación RF doutros fabricantes.

A fonte de alimentación de pulverización catódica CC da serie MSD adopta o sistema de control CC central da empresa combinado cun excelente esquema de procesamento de arco, de xeito que o produto teña un rendemento moi estable, alta fiabilidade do produto, pequenos danos de arco e boa repetibilidade do proceso. Adopta unha interface de visualización en chinés e inglés, fácil de operar.