RF/Sputtering-aren elikatze-iturria

RHH serieko RF elikatze-iturriak RF sorkuntza-teknologia helduan oinarritzen da bezeroei potentzia handiagoa, zehaztasun handiagoa eta erantzun azkarragoa duen RF elikatze-iturria eskaintzeko. Fasea ezar daiteke, pultsu-kontrolagarria, sintonizazio digitala eta beste funtzio batzuk ere bai. Aplikagarri diren eremuak: industria fotovoltaikoa, pantaila lauen industria, erdieroaleen industria, industria kimikoa, laborategia, ikerketa zientifikoa, fabrikazioa, etab.
Aplikagarriak diren prozesuak: plasma bidezko lurrun-deposizio kimiko hobetua (PECVD), plasma-grabaketa, plasma-garbiketa, irrati-maiztasuneko ioien iturria, plasma-difusioa, plasma-polimerizazio-sputtering-a, sputtering erreaktiboa, etab.

RLS serieko RF elikatze-iturriak egungo potentzia-anplifikadore egonkor eta fidagarria eta konpainiaren DC kontrol-sistema nagusia erabiltzen ditu, produktuak errendimendu oso egonkorra eta fidagarritasun handia izan dezan. Txineraz eta ingelesez egindako pantaila-interfazea erabiltzen da, erabiltzeko erraza. Batez ere industria fotovoltaikoan, pantaila lauen industrian, erdieroaleen industrian, industria kimikoan, laborategian, ikerketa zientifikoan, fabrikazioan, etab. erabiltzen da.

RLS serieko RF elikatze-iturrietara egokitu daiteke, eta oso erabilia da plasma grabatzean, estalduran, plasma garbiketan, plasma desgomatzean eta beste prozesu batzuetan. Bakarrik erabiltzen denean, beste fabrikatzaile batzuen RF elikatze-iturriekin batera erabil daiteke.

MSD serieko DC sputtering-aren elikatze-iturriak konpainiaren DC kontrol-sistema nagusia erabiltzen du arku-prozesatzeko eskema bikainarekin konbinatuta, produktuak errendimendu oso egonkorra, produktuaren fidagarritasun handia, arku-kalte txikiak eta prozesuaren errepikagarritasun ona izan dezan. Txineraz eta ingelesez bistaratzeko interfazea erabiltzen du, erabiltzeko erraza.