Napájecí zdroj pro RF/naprašování

RF napájecí zdroje řady RHH využívají vyspělou technologii generování RF signálu, která zákazníkům poskytuje RF napájení s vyšším výkonem, vyšší přesností a rychlou odezvou. S možností nastavení fáze, pulzního řízení, digitálního ladění a dalších funkcí. Použitelné oblasti: fotovoltaický průmysl, průmysl plochých displejů, polovodičový průmysl, chemický průmysl, laboratoře, vědecký výzkum, výroba atd.
Použitelné procesy: plazmově vylepšená chemická depozice z plynné fáze (PECVD), plazmové leptání, plazmové čištění, radiofrekvenční iontový zdroj, plazmová difúze, plazmové polymerační naprašování, reaktivní naprašování atd.

RF napájecí zdroj řady RLS využívá stabilní a spolehlivý výkonový zesilovač a základní stejnosměrný řídicí systém společnosti, takže produkt má velmi stabilní výkon a vysokou spolehlivost. Používá čínské a anglické rozhraní pro snadnou obsluhu. Používá se hlavně ve fotovoltaickém průmyslu, průmyslu plochých displejů, polovodičovém průmyslu, chemickém průmyslu, laboratořích, vědeckém výzkumu, výrobě atd.

Lze jej přizpůsobit RF napájecímu zdroji řady RLS a je široce používán v plazmovém leptání, povlakování, plazmovém čištění, plazmovém odgumování a dalších procesech. Při samostatném použití jej lze použít společně s RF napájecími zdroji jiných výrobců.

Napájecí zdroj pro stejnosměrné naprašování řady MSD využívá základní systém řízení stejnosměrného proudu společnosti v kombinaci s vynikajícím schématem zpracování oblouku, takže produkt má velmi stabilní výkon, vysokou spolehlivost, malé poškození obloukem a dobrou opakovatelnost procesu. Používá čínské a anglické rozhraní pro snadnou obsluhu.