VF výkon

RF napájecí zdroje řady RHH využívají vyspělou technologii generování RF signálu, která zákazníkům poskytuje RF napájení s vyšším výkonem, vyšší přesností a rychlou odezvou. S možností nastavení fáze, pulzního řízení, digitálního ladění a dalších funkcí. Použitelné oblasti: fotovoltaický průmysl, průmysl plochých displejů, polovodičový průmysl, chemický průmysl, laboratoře, vědecký výzkum, výroba atd.
Použitelné procesy: plazmově vylepšená chemická depozice z plynné fáze (PECVD), plazmové leptání, plazmové čištění, radiofrekvenční iontový zdroj, plazmová difúze, plazmové polymerační naprašování, reaktivní naprašování atd.