Puissance RF

L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour offrir aux clients une alimentation RF plus puissante, plus précise et plus rapide. Elle dispose de fonctions de réglage de phase, de contrôle d'impulsions, d'accord numérique et autres. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, production industrielle, etc.
Procédés applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure plasma, nettoyage plasma, source d’ions radiofréquence, diffusion plasma, pulvérisation cathodique par polymérisation plasma, pulvérisation cathodique réactive, etc.