Potencia de RF

La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en tecnología avanzada de generación de RF para ofrecer a los clientes una fuente de alimentación RF de mayor potencia, precisión y respuesta rápida. Permite ajustar la fase, controlar los pulsos y realizar ajustes digitales, entre otras funciones. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado de plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.