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Serie PDB
Fuente de alimentación RF serie RHH

La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en tecnología avanzada de generación de RF para ofrecer a los clientes una fuente de alimentación RF de mayor potencia, precisión y respuesta rápida. Permite ajustar la fase, controlar los pulsos y realizar ajustes digitales, entre otras funciones. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado de plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.

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Características principales

  • ● Estilos de montaje en bastidor y de medio ladrillo
  • ● Adopte un control digital completo, con un menú de operación conveniente y rico
  • ● Funciones de sintonización de frecuencia, pulso y sincronización de pulso
  • ● Con función de sincronización de fase CEX
  • ● Función de protección perfecta

Los parámetros principales

Especificación del modelo:

Aporte Voltaje de entrada: CA 220 V ± 10 % 3 Φ CA 380 V ± 5 % (se pueden personalizar especificaciones especiales)
Frecuencia de entrada: 47~63 Hz
Producción Frecuencia de salida: 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz
Rango de ajuste: ±5%
Potencia de salida: 1,5~5 kW
Rango de regulación de potencia de salida: 1~100%
Impedancia de salida: 50Ω+j0
Interfaz de salida: tipo N
Modo de salida: continuo, pulso
Frecuencia de pulso: 100 Hz ~ 100 kHz
Ciclo de trabajo: 5~95%
Índice de rendimiento Factor de potencia: 0,98
Precisión de estabilidad de frecuencia: ±0,005%
Eficiencia: 75% (a potencia nominal)
Armónico: ＜-45dBc
Parásito: ＜-50dBc
Interfaz de control externo: cantidad analógica, comunicación y sincronización
Modo de comunicación: Interfaz de comunicación RS485 estándar; Ether CAT opcional, Ethernet industrial, etc.
Nota: El producto se innova continuamente y su rendimiento mejora constantemente. Esta descripción de parámetros es solo de referencia.