Fuente de alimentación de RF/pulverización catódica

La fuente de alimentación RF de la serie RHH se basa en tecnología avanzada de generación de RF para ofrecer a los clientes una fuente de alimentación RF de mayor potencia, precisión y respuesta rápida. Permite ajustar la fase, controlar los pulsos y realizar ajustes digitales, entre otras funciones. Campos de aplicación: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.
Procesos aplicables: deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado de plasma, limpieza de plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.

La fuente de alimentación RF serie RLS incorpora un amplificador de potencia estable y fiable, así como el sistema de control de CC central de la compañía, lo que le confiere un rendimiento muy estable y una alta fiabilidad. Incorpora una interfaz de pantalla en chino e inglés, fácil de usar. Se utiliza principalmente en la industria fotovoltaica, la industria de pantallas planas, la industria de semiconductores, la industria química, laboratorios, investigación científica, fabricación, etc.

Se adapta a las fuentes de alimentación RF de la serie RLS y se utiliza ampliamente en grabado por plasma, recubrimiento, limpieza por plasma, desgomado por plasma y otros procesos. Puede utilizarse de forma independiente junto con fuentes de alimentación RF de otros fabricantes.

La fuente de alimentación de CC para pulverización catódica serie MSD incorpora el sistema de control de CC central de la compañía, combinado con un excelente esquema de procesamiento de arco, lo que le confiere un rendimiento muy estable, alta fiabilidad, mínimo daño por arco y buena repetibilidad del proceso. Incorpora una interfaz de pantalla en chino e inglés, fácil de usar.