Τροφοδοτικό RF/Sputtering

Το τροφοδοτικό RF της σειράς RHH βασίζεται σε ώριμη τεχνολογία παραγωγής RF για να παρέχει στους πελάτες τροφοδοτικό RF με μεγαλύτερη ισχύ, υψηλότερη ακρίβεια και γρήγορη απόκριση. Με δυνατότητα ρύθμισης φάσης, έλεγχο παλμών, ψηφιακό συντονισμό και άλλες λειτουργίες. Εφαρμοστέοι τομείς: φωτοβολταϊκή βιομηχανία, βιομηχανία επίπεδων οθονών, βιομηχανία ημιαγωγών, χημική βιομηχανία, εργαστήριο, επιστημονική έρευνα, κατασκευή κ.λπ.
Εφαρμοστέες διεργασίες: εναπόθεση χημικών ατμών με ενίσχυση πλάσματος (PECVD), χάραξη πλάσματος, καθαρισμός πλάσματος, πηγή ιόντων ραδιοσυχνοτήτων, διάχυση πλάσματος, ψεκασμός πολυμερισμού πλάσματος, αντιδραστικός ψεκασμός κ.λπ.

Το τροφοδοτικό RF της σειράς RLS υιοθετεί τον τρέχοντα σταθερό και αξιόπιστο ενισχυτή ισχύος και το βασικό σύστημα ελέγχου DC της εταιρείας, έτσι ώστε το προϊόν να έχει πολύ σταθερή απόδοση και υψηλή αξιοπιστία. Υιοθετεί διεπαφή οθόνης στα κινέζικα και τα αγγλικά, εύκολη στη λειτουργία. Χρησιμοποιείται κυρίως στη φωτοβολταϊκή βιομηχανία, στη βιομηχανία επίπεδων οθονών, στη βιομηχανία ημιαγωγών, στη χημική βιομηχανία, στο εργαστήριο, στην επιστημονική έρευνα, στην κατασκευή κ.λπ.

Μπορεί να προσαρμοστεί σε τροφοδοτικό RF σειράς RLS και χρησιμοποιείται ευρέως σε χάραξη με πλάσμα, επίστρωση, καθαρισμό με πλάσμα, αποελάστωση με πλάσμα και άλλες διεργασίες. Όταν χρησιμοποιείται μόνο του, μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε συνδυασμό με τροφοδοτικά RF άλλων κατασκευαστών.

Το τροφοδοτικό ψεκασμού DC της σειράς MSD υιοθετεί το βασικό σύστημα ελέγχου DC της εταιρείας σε συνδυασμό με εξαιρετικό σχήμα επεξεργασίας τόξου, έτσι ώστε το προϊόν να έχει πολύ σταθερή απόδοση, υψηλή αξιοπιστία προϊόντος, μικρές ζημιές από τόξο και καλή επαναληψιμότητα διαδικασίας. Υιοθετεί διεπαφή οθόνης στα κινέζικα και τα αγγλικά, εύκολη στη λειτουργία.