RF/Sputtering strømforsyning

RHH-seriens RF-strømforsyninger er baseret på moden RF-genereringsteknologi for at give kunderne en RF-strømforsyning med større effekt, højere præcision og hurtig respons. Med faseindstilling, pulsstyring, digital tuning og andre funktioner. Anvendelsesområder: solcelleindustri, fladskærmsindustri, halvlederindustri, kemisk industri, laboratorium, videnskabelig forskning, fremstilling osv.
Anvendelige processer: plasmaforstærket kemisk dampaflejring (PECVD), plasmaætsning, plasmarensning, radiofrekvensionkilde, plasmadiffusion, plasmapolymerisationssputtering, reaktiv sputtering osv.

RLS-seriens RF-strømforsyning anvender den nuværende stabile og pålidelige effektforstærker og virksomhedens centrale DC-styringssystem, hvilket giver produktet en meget stabil ydeevne og høj produktpålidelighed. Den anvender kinesisk og engelsk displaygrænseflade, der er nem at betjene. Anvendes hovedsageligt i solcelleindustrien, fladskærmsindustrien, halvlederindustrien, den kemiske industri, laboratoriet, videnskabelig forskning, fremstilling osv.

Den kan tilpasses til RLS-serien af ​​RF-strømforsyninger og anvendes i vid udstrækning til plasmaætsning, belægning, plasmarensning, plasmaafgummering og andre processer. Når den bruges alene, kan den bruges sammen med andre producenters RF-strømforsyninger.

MSD-seriens DC-sputterstrømforsyning anvender virksomhedens kerne-DC-styringssystem kombineret med et fremragende lysbuebehandlingssystem, hvilket giver produktet en meget stabil ydeevne, høj produktpålidelighed, lille lysbueskade og god procesrepeterbarhed. Bruger et kinesisk og engelsk displayinterface, der er nemt at betjene.