Sursă de alimentare RF/catodică

Sursa de alimentare RF din seria RHH se bazează pe o tehnologie matură de generare RF pentru a oferi clienților o sursă de alimentare RF cu putere mai mare, precizie sporită și răspuns rapid. Cu funcție de setare a fazei, control prin impulsuri, reglare digitală și alte funcții. Domenii aplicabile: industria fotovoltaică, industria afișajelor cu ecran plat, industria semiconductorilor, industria chimică, laborator, cercetare științifică, producție etc.
Procese aplicabile: depunere chimică în fază de vapori asistată de plasmă (PECVD), gravare cu plasmă, curățare cu plasmă, sursă de ioni de radiofrecvență, difuzie cu plasmă, pulverizare cu polimerizare cu plasmă, pulverizare reactivă etc.

Sursa de alimentare RF din seria RLS adoptă amplificatorul de putere stabil și fiabil actual și sistemul de control DC de bază al companiei, astfel încât produsul are performanțe foarte stabile și fiabilitate ridicată. Adoptă o interfață de afișare în limba chineză și engleză, ușor de utilizat. Se utilizează în principal în industria fotovoltaică, industria afișajelor cu ecran plat, industria semiconductorilor, industria chimică, laboratoare, cercetare științifică, producție etc.

Poate fi adaptat la sursele de alimentare RF din seria RLS și este utilizat pe scară largă în gravarea cu plasmă, acoperirea cu plasmă, curățarea cu plasmă, degumarea cu plasmă și alte procese. Atunci când este utilizat singur, poate fi utilizat împreună cu sursele de alimentare RF de la alți producători.

Sursa de alimentare pentru pulverizare DC din seria MSD adoptă sistemul de control DC de bază al companiei, combinat cu o schemă excelentă de procesare a arcului, astfel încât produsul are performanțe foarte stabile, fiabilitate ridicată a produsului, deteriorare mică a arcului și repetabilitate bună a procesului. Adoptă o interfață de afișare în chineză și engleză, ușor de utilizat.