RF/sputter-voeding

De RHH-serie RF-voedingen maakt gebruik van beproefde RF-generatietechnologie om klanten te voorzien van RF-voedingen met een hoger vermogen, grotere precisie en snelle respons. De voedingen beschikken over instelbare fase, regelbare pulsen, digitale afstemming en andere functies. Toepassingsgebieden: fotovoltaïsche industrie, beeldschermindustrie, halfgeleiderindustrie, chemische industrie, laboratoria, wetenschappelijk onderzoek, productie, enz.
Toepasselijke processen: plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), plasma-etsen, plasma-reiniging, radiofrequente ionenbron, plasma-diffusie, plasma-polymerisatie-sputteren, reactief sputteren, enz.

De RLS-serie RF-voedingen maakt gebruik van een stabiele en betrouwbare eindversterker en het door het bedrijf ontwikkelde DC-regelsysteem, waardoor het product zeer stabiele prestaties en een hoge betrouwbaarheid biedt. De display-interface is zowel in het Chinees als in het Engels te gebruiken, wat de bediening vereenvoudigt. De voedingen worden hoofdzakelijk gebruikt in de fotovoltaïsche industrie, de flatpanel-displayindustrie, de halfgeleiderindustrie, de chemische industrie, laboratoria, wetenschappelijk onderzoek, de productie, enzovoort.

Het kan worden aangepast aan de RF-voedingen uit de RLS-serie en wordt veel gebruikt bij plasma-etsen, coaten, plasma-reiniging, plasma-ontgommen en andere processen. Het kan, indien afzonderlijk gebruikt, worden gecombineerd met RF-voedingen van andere fabrikanten.

De MSD-serie DC-sputtervoedingen maakt gebruik van het door het bedrijf ontwikkelde DC-besturingssysteem in combinatie met een uitstekend boogverwerkingsschema. Hierdoor heeft het product zeer stabiele prestaties, een hoge productbetrouwbaarheid, minimale boogschade en een goede procesherhaalbaarheid. De bediening is eenvoudig dankzij de Chinese en Engelse display-interface.