Alimentatore RF/sputtering

L'alimentatore RF della serie RHH si basa su una tecnologia di generazione RF matura per fornire ai clienti un alimentatore RF con maggiore potenza, maggiore precisione e risposta rapida. È dotato di impostazione di fase, controllo degli impulsi, sintonizzazione digitale e altre funzioni. Campi di applicazione: industria fotovoltaica, industria dei display a schermo piatto, industria dei semiconduttori, industria chimica, laboratori, ricerca scientifica, produzione, ecc.
Processi applicabili: deposizione chimica da vapore potenziata al plasma (PECVD), incisione al plasma, pulizia al plasma, sorgente di ioni a radiofrequenza, diffusione al plasma, sputtering di polimerizzazione al plasma, sputtering reattivo, ecc.

L'alimentatore RF della serie RLS adotta l'amplificatore di potenza stabile e affidabile e il sistema di controllo CC core dell'azienda, garantendo prestazioni estremamente stabili e un'elevata affidabilità. L'interfaccia di visualizzazione è disponibile in cinese e inglese, per un utilizzo semplice. Utilizzato principalmente nell'industria fotovoltaica, dei display a schermo piatto, dei semiconduttori, chimica, in laboratorio, nella ricerca scientifica, nella produzione, ecc.

Può essere adattato agli alimentatori RF della serie RLS ed è ampiamente utilizzato in processi di incisione al plasma, rivestimento, pulizia al plasma, sgommatura al plasma e altri processi. Se utilizzato da solo, può essere utilizzato insieme ad alimentatori RF di altri produttori.

L'alimentatore a sputtering CC della serie MSD adotta il sistema di controllo CC di base dell'azienda, combinato con un eccellente schema di elaborazione dell'arco, garantendo al prodotto prestazioni molto stabili, elevata affidabilità, danni da arco ridotti e buona ripetibilità del processo. Adotta un'interfaccia di visualizzazione in cinese e inglese, facile da usare.