RF/purškimo maitinimo šaltinis

RHH serijos RF maitinimo šaltiniai remiasi pažangia RF generavimo technologija, kad klientams būtų galima pasiūlyti didesnės galios, didesnio tikslumo ir greitesnio reagavimo RF maitinimo šaltinius. Galima nustatyti fazę, valdyti impulsus, atlikti skaitmeninį derinimą ir kitas funkcijas. Taikymo sritys: fotovoltinių įrenginių pramonė, plokščiųjų ekranų pramonė, puslaidininkių pramonė, chemijos pramonė, laboratorijos, moksliniai tyrimai, gamyba ir kt.
Taikomi procesai: plazmoje sustiprintas cheminis garų nusodinimas (PECVD), plazminis ėsdinimas, plazminis valymas, radijo dažnių jonų šaltinis, plazmos difuzija, plazminės polimerizacijos dulkinimas, reaktyvusis dulkinimas ir kt.

RLS serijos RF maitinimo šaltinis naudoja dabartinį stabilų ir patikimą galios stiprintuvą bei pagrindinę įmonės nuolatinės srovės valdymo sistemą, todėl gaminys pasižymi labai stabiliu veikimu ir dideliu patikimumu. Pritaikyta kinų ir anglų kalbų ekrano sąsaja, todėl lengva valdyti. Daugiausia naudojamas fotovoltinių ekranų pramonėje, plokščiųjų ekranų pramonėje, puslaidininkių pramonėje, chemijos pramonėje, laboratorijose, moksliniuose tyrimuose, gamyboje ir kt.

Jis gali būti pritaikytas RLS serijos RF maitinimo šaltiniams ir yra plačiai naudojamas plazminio ėsdinimo, dengimo, plazminio valymo, plazminės gleivių šalinimo ir kituose procesuose. Naudojant atskirai, jis gali būti naudojamas kartu su kitų gamintojų RF maitinimo šaltiniais.

MSD serijos nuolatinės srovės purškimo maitinimo šaltiniai naudoja pagrindinę įmonės nuolatinės srovės valdymo sistemą kartu su puikia lanko apdorojimo schema, todėl gaminys pasižymi labai stabiliu veikimu, dideliu patikimumu, mažu lanko pažeidimu ir geru proceso pakartojamumu. Pritaikyta kinų ir anglų kalbų ekrano sąsaja, todėl ją lengva valdyti.