RF galia

RHH serijos RF maitinimo šaltiniai remiasi pažangia RF generavimo technologija, kad klientams būtų galima pasiūlyti didesnės galios, didesnio tikslumo ir greitesnio reagavimo RF maitinimo šaltinius. Galima nustatyti fazę, valdyti impulsus, atlikti skaitmeninį derinimą ir kitas funkcijas. Taikymo sritys: fotovoltinių įrenginių pramonė, plokščiųjų ekranų pramonė, puslaidininkių pramonė, chemijos pramonė, laboratorijos, moksliniai tyrimai, gamyba ir kt.
Taikomi procesai: plazmoje sustiprintas cheminis garų nusodinimas (PECVD), plazminis ėsdinimas, plazminis valymas, radijo dažnių jonų šaltinis, plazmos difuzija, plazminės polimerizacijos dulkinimas, reaktyvusis dulkinimas ir kt.