Fonte de alimentação RF/Sputtering

A série RHH de fontes de alimentação de RF utiliza tecnologia de geração de RF consolidada para fornecer aos clientes uma fonte de alimentação com maior potência, precisão e resposta rápida. Possui funções como ajuste de fase, controle de pulso e sintonia digital. Aplicações: indústria fotovoltaica, indústria de telas planas, indústria de semicondutores, indústria química, laboratórios, pesquisa científica, manufatura, etc.
Processos aplicáveis: deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD), gravação a plasma, limpeza a plasma, fonte de íons de radiofrequência, difusão de plasma, pulverização catódica por polimerização a plasma, pulverização catódica reativa, etc.

A fonte de alimentação RF da série RLS adota um amplificador de potência estável e confiável, além do sistema de controle CC da empresa, o que garante desempenho estável e alta confiabilidade do produto. Possui interface de exibição em chinês e inglês, facilitando a operação. É utilizada principalmente nas indústrias fotovoltaica, de telas planas, de semicondutores, química, em laboratórios, pesquisas científicas, manufatura, entre outras.

Pode ser adaptado à série de fontes de alimentação de RF RLS e é amplamente utilizado em processos como gravação a plasma, revestimento, limpeza a plasma, desgomagem a plasma e outros. Quando usado individualmente, pode ser utilizado em conjunto com fontes de alimentação de RF de outros fabricantes.

A fonte de alimentação de pulverização catódica DC da série MSD adota o sistema de controle DC principal da empresa, combinado com um excelente esquema de processamento de arco, resultando em um produto com desempenho muito estável, alta confiabilidade, baixo dano por arco e boa repetibilidade do processo. Possui interface de exibição em chinês e inglês, facilitando a operação.