Alimentation RF/Pulvérisation

L'alimentation RF de la série RHH s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour offrir aux clients une alimentation RF plus puissante, plus précise et plus rapide. Elle dispose de fonctions de réglage de phase, de contrôle d'impulsions, d'accord numérique et autres. Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, production industrielle, etc.
Procédés applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure plasma, nettoyage plasma, source d’ions radiofréquence, diffusion plasma, pulvérisation cathodique par polymérisation plasma, pulvérisation cathodique réactive, etc.

L'alimentation RF de la série RLS intègre un amplificateur de puissance stable et fiable ainsi qu'un système de contrôle CC de pointe, garantissant ainsi des performances très stables et une grande fiabilité. Son interface d'affichage bilingue (chinois/anglais) la rend facile à utiliser. Elle est principalement utilisée dans les secteurs du photovoltaïque, des écrans plats, des semi-conducteurs, de la chimie, ainsi que dans les laboratoires, la recherche scientifique et la production industrielle.

Il est compatible avec les alimentations RF de la série RLS et est largement utilisé dans la gravure plasma, le revêtement, le nettoyage plasma, le dégommage plasma et d'autres procédés. Utilisé seul, il peut également être associé à des alimentations RF d'autres fabricants.

L'alimentation pour pulvérisation cathodique CC de la série MSD intègre le système de contrôle CC de pointe de la société, associé à un procédé de traitement d'arc performant. Il en résulte une grande stabilité, une fiabilité élevée, des dommages causés par l'arc réduits et une excellente répétabilité du processus. Son interface utilisateur bilingue (chinois/anglais) la rend facile à utiliser.