RF/スパッタリング電源

RHHシリーズRF電源は、成熟したRF生成技術を採用し、より高出力、高精度、高速応答のRF電源をお客様に提供します。位相設定、パルス制御、デジタルチューニングなどの機能を備えています。適用分野：太陽光発電産業、フラットパネルディスプレイ産業、半導体産業、化学産業、研究所、科学研究、製造業など。
適用可能なプロセス: プラズマ化学気相成長法 (PECVD)、プラズマエッチング、プラズマクリーニング、無線周波数イオン源、プラズマ拡散、プラズマ重合スパッタリング、反応性スパッタリングなど。

RLSシリーズRF電源は、最新の安定性と信頼性の高いパワーアンプと当社のコアDC制御システムを採用しており、非常に安定した性能と高い製品信頼性を備えています。中国語と英語のディスプレイインターフェースを採用し、操作も簡単です。主に太陽光発電産業、フラットパネルディスプレイ産業、半導体産業、化学産業、実験室、科学研究、製造業などで使用されています。

RLSシリーズRF電源に適合し、プラズマエッチング、コーティング、プラズマクリーニング、プラズマ脱ガムなどのプロセスに広く使用されています。単独で使用する場合も、他社のRF電源と併用することも可能です。

MSDシリーズDCスパッタリング電源は、当社のコアDC制御システムと優れたアーク処理方式を組み合わせることで、非常に安定した性能、高い製品信頼性、アークダメージの低減、優れたプロセス再現性を実現しています。中国語と英語のディスプレイインターフェースを採用し、操作も簡単です。