Nguồn điện RF/Phun phủ

Bộ nguồn RF dòng RHH dựa trên công nghệ tạo xung RF tiên tiến, cung cấp cho khách hàng bộ nguồn RF mạnh mẽ hơn, độ chính xác cao hơn và tốc độ phản hồi nhanh hơn. Sản phẩm tích hợp các chức năng như cài đặt pha, điều khiển xung, điều chỉnh kỹ thuật số và nhiều chức năng khác. Ứng dụng trong các lĩnh vực: công nghiệp quang điện, công nghiệp màn hình phẳng, công nghiệp bán dẫn, công nghiệp hóa chất, phòng thí nghiệm, nghiên cứu khoa học, sản xuất, v.v.
Các quy trình áp dụng: lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma (PECVD), khắc plasma, làm sạch plasma, nguồn ion tần số vô tuyến, khuếch tán plasma, lắng đọng phún xạ trùng hợp plasma, lắng đọng phún xạ phản ứng, v.v.

Bộ nguồn RF dòng RLS sử dụng bộ khuếch đại công suất ổn định và đáng tin cậy cùng hệ thống điều khiển DC cốt lõi của công ty, đảm bảo sản phẩm có hiệu suất rất ổn định và độ tin cậy cao. Sử dụng giao diện hiển thị tiếng Trung và tiếng Anh, dễ vận hành. Chủ yếu được sử dụng trong ngành công nghiệp quang điện, công nghiệp màn hình phẳng, công nghiệp bán dẫn, công nghiệp hóa chất, phòng thí nghiệm, nghiên cứu khoa học, sản xuất, v.v.

Thiết bị này có thể được điều chỉnh để tương thích với nguồn điện RF dòng RLS và được sử dụng rộng rãi trong khắc plasma, phủ lớp, làm sạch plasma, tẩy keo plasma và các quy trình khác. Khi sử dụng riêng lẻ, nó cũng có thể được sử dụng kết hợp với các nguồn điện RF của các nhà sản xuất khác.

Bộ nguồn phun phủ DC dòng MSD sử dụng hệ thống điều khiển DC cốt lõi của công ty kết hợp với phương án xử lý hồ quang xuất sắc, giúp sản phẩm có hiệu suất rất ổn định, độ tin cậy cao, ít hư hỏng do hồ quang và khả năng lặp lại quy trình tốt. Sử dụng giao diện hiển thị tiếng Trung và tiếng Anh, dễ vận hành.