Fonte de alimentación por pulverización catódica

A fonte de alimentación RF da serie RLS adopta o amplificador de potencia estable e fiable actual e o sistema de control de CC central da empresa, de xeito que o produto ten un rendemento moi estable e unha alta fiabilidade do produto. Adopta unha interface de visualización en chinés e inglés, fácil de operar. Úsase principalmente na industria fotovoltaica, na industria das pantallas planas, na industria dos semicondutores, na industria química, en laboratorios, na investigación científica, na fabricación, etc.

Pódese adaptar á fonte de alimentación RF da serie RLS e úsase amplamente en gravado por plasma, revestimento, limpeza por plasma, desgomado por plasma e outros procesos. Cando se usa só, pódese usar xunto con fontes de alimentación RF doutros fabricantes.

A fonte de alimentación de pulverización catódica CC da serie MSD adopta o sistema de control CC central da empresa combinado cun excelente esquema de procesamento de arco, de xeito que o produto teña un rendemento moi estable, alta fiabilidade do produto, pequenos danos de arco e boa repetibilidade do proceso. Adopta unha interface de visualización en chinés e inglés, fácil de operar.