RPJ-Serio
RF-Nutrado

La RPJ-serio dependas de matura RF-generacia teknologio por provizi al klientoj RF-elektroprovizojn kun pli granda potenco, pli alta precizeco kaj rapida respondo. Ĝi havas funkciojn kiel fazagordo kaj pulsa kontrolo.

Aplikeblaj kampoj: fotovoltaika industrio, plata ekranindustrio, duonkonduktaĵa industrio, kemia industrio, laboratorio, scienca esplorado, fabrikado, ktp.

Aplikeblaj procezoj: plasmo plibonigita kemia vapora deponado (PECVD), plasma subkorpa akvaforto, plasmopurigado, radiofrekvenca jonfonto, plasmodifuzo, plasmopolimeriga ŝprucado, reaktiva ŝprucado, ktp.

Ĉefaj trajtoj

● Adoptante plenan ciferecan kontrolon kaj altprecizajn sensilojn

● Kapabla atingi pulsan eliron
● Realtempa impedanca potenco-detekto

● CEX ekstera signala enigo, preciza kontrolo de ĉiu fazo

La ĉefaj parametroj

Enigo

Eniga tensio 3φAC208V, 3φAC380V; 50/60Hz
Konverta efikeco ≥70%

Eligo

Elira potenco 3kW, 6kW, 12kW, 20kW, 24kW
Elira frekvenco 13.56MHz, 27.12MHz, 40.68MHz, 60MHz
Elira impedanco 50Ω+0j
Elira frekvenca stabileco ±0.005%
Elira reĝimo Kontinua, pulsa

rendimenta indekso

Potencoprecizeco 4Wor±1%
Harmona -40dBc
Falsa -40dBc
Pulsfrekvenco 100Hz~20kHz
Minimuma pulslarĝo 25μs
Kontrola interfaco Analoga, RS-232, Eterreto, EterCAT ktp.

Noto: la produkto daŭre novigas kaj la rendimento daŭre pliboniĝas. Ĉi tiu parametro-priskribo estas nur por referenco.

Pliaj informoj

Elŝuti

RPJ Serio RF-Nutrado-Datumfolio
Elŝuti

Reen al la Centro por Energisolvoj

RPJ-SerioRF-Nutrado