Série RPJ
Fonte de alimentação RF

A série RPJ utiliza tecnologia de geração de RF consolidada para fornecer aos clientes fontes de alimentação de RF com maior potência, precisão e resposta rápida. A ferramenta possui funções como ajuste de fase e controle de pulso.

Áreas de aplicação: indústria fotovoltaica, indústria de telas planas, indústria de semicondutores, indústria química, laboratórios, pesquisa científica, manufatura, etc.

Processos aplicáveis: deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD), gravação de subcorpo por plasma, limpeza por plasma, fonte de íons de radiofrequência, difusão de plasma, pulverização catódica por polimerização por plasma, pulverização catódica reativa, etc.

Principais características

● Adoção de controle totalmente digital e sensores de alta precisão

● Capaz de gerar saída de pulso
● Detecção de potência de impedância em tempo real

● Entrada de sinal externo CEX, controle preciso de cada fase

Os principais parâmetros

Entrada

Tensão de entrada 3φAC208V, 3φAC380V; 50/60Hz
Eficiência de conversão ≥70%

Saída

Potência de saída: 3 kW, 6 kW, 12 kW, 20 kW, 24 kW
Frequência de saída: 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
Impedância de saída 50Ω+0j
Estabilidade da frequência de saída ±0,005%
Modo de saída: Contínuo, pulso

Índice de desempenho

Precisão de potência 4Wor±1%
Harmônico -40dBc
Espúrios de -40dBc
Frequência de pulso 100Hz~20kHz
Largura mínima do pulso: 25 μs
Interface de controle analógica, RS-232, Ethernet, EtherCAT etc.

Nota: o produto continua a inovar e o desempenho continua a melhorar. Esta descrição de parâmetros serve apenas como referência.

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Folha de dados da fonte de alimentação RF da série RPJ
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