RPJ-serie
RF-voeding

De RPJ-serie maakt gebruik van beproefde RF-generatietechnologie om klanten RF-voedingen te bieden met een hoger vermogen, grotere precisie en snelle respons. Het apparaat beschikt over functies zoals fase-instelling en pulsregeling.

Toepassingsgebieden: fotovoltaïsche industrie, platte beeldschermindustrie, halfgeleiderindustrie, chemische industrie, industrie, laboratorium, wetenschappelijk onderzoek, productie, enz.

Toepasselijke processen: plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), plasma-subbody etching, plasma-reiniging, radiofrequentie-ionenbron, plasma-diffusie, plasma-polymerisatie-sputteren, reactief sputteren, enz.

Belangrijkste kenmerken

● Gebruikmakend van volledig digitale besturing en uiterst nauwkeurige sensoren

● In staat om een pulsoutput te genereren
● Realtime detectie van impedantievermogen

● CEX externe signaalinvoer, nauwkeurige regeling van elke fase

De belangrijkste parameters

Invoer

Ingangsspanning 3-fasen AC 208V, 3-fasen AC 380V; 50/60Hz
Conversie-efficiëntie ≥70%

Uitvoer

Uitgangsvermogen 3 kW, 6 kW, 12 kW, 20 kW, 24 kW
Uitgangsfrequentie 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
Uitgangsimpedantie 50Ω+0j
Stabiliteit van de uitgangsfrequentie ±0,005%
Uitgangsmodus: Continu, puls

Prestatie-index

Vermogensnauwkeurigheid 4Wor±1%
Harmonische -40dBc
Valse -40dBc
Pulsfrequentie 100Hz~20kHz
Minimale pulsbreedte 25 μs
Besturingsinterface: analoog, RS-232, Ethernet, EtherCAT, enz.

Let op: het product wordt continu vernieuwd en de prestaties blijven verbeteren. Deze parameterbeschrijving dient uitsluitend ter referentie.

Meer informatie

Download

RPJ-serie RF-voeding - Datasheet
Download

Terug naar het Power Solutions Center

RPJ-serieRF-voeding