Série RPJ
Alimentation RF

La série RPJ s'appuie sur une technologie de génération RF éprouvée pour fournir aux clients des alimentations RF offrant une puissance accrue, une précision supérieure et une réponse rapide. Elle dispose de fonctions telles que le réglage de phase et le contrôle d'impulsions.

Domaines d'application : industrie photovoltaïque, industrie des écrans plats, industrie des semi-conducteurs, industrie chimique, laboratoires, recherche scientifique, fabrication, etc.

Procédés applicables : dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), gravure de sous-corps par plasma, nettoyage par plasma, source d’ions radiofréquence, diffusion par plasma, pulvérisation cathodique par polymérisation par plasma, pulvérisation cathodique réactive, etc.

Caractéristiques principales

● Adoption d'une commande entièrement numérique et de capteurs de haute précision

● Capable de produire une sortie d'impulsions
● Détection de puissance d'impédance en temps réel

● Entrée de signal externe CEX, contrôle précis de chaque phase

Les principaux paramètres

Saisir

Tension d'entrée triphasée 208 V CA, triphasée 380 V CA ; 50/60 Hz
Efficacité de conversion ≥70%

Sortir

Puissance de sortie : 3 kW, 6 kW, 12 kW, 20 kW, 24 kW
Fréquence de sortie : 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
Impédance de sortie 50Ω + 0j
Stabilité de la fréquence de sortie ±0,005%
Mode de sortie : continu, pulsé

Indice de performance

Précision de la puissance 4Wor ±1%
Harmonique -40 dBc
Signal parasite -40 dBc
Fréquence d'impulsion 100 Hz ~ 20 kHz
Largeur d'impulsion minimale 25 μs
Interface de contrôle analogique, RS-232, Ethernet, EtherCAT, etc.

Remarque : ce produit continue d’innover et ses performances de s’améliorer. Cette description des paramètres est donnée à titre indicatif uniquement.

Plus d'informations

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Fiche technique de l'alimentation RF série RPJ
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