Serie RPJ
Fonte de alimentación de RF

A serie RPJ baséase na tecnoloxía de xeración de RF madura para proporcionar aos clientes fontes de alimentación de RF con maior potencia, maior precisión e resposta rápida. Ten funcións como a configuración de fase e o control de pulsos.

Campos aplicables: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semicondutores, industria química, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.

Procesos aplicables: deposición química de vapor mellorada por plasma (PECVD), gravado de subcorpos por plasma, limpeza por plasma, fonte de ións de radiofrecuencia, difusión por plasma, pulverización catódica por polimerización por plasma, pulverización catódica reactiva, etc.

Características principais

● Adoptando control totalmente dixital e sensores de alta precisión

● Capaz de conseguir unha saída de pulsos
● Detección de potencia de impedancia en tempo real

● Entrada de sinal externo CEX, control preciso de cada fase

Os principais parámetros

Entrada

Tensión de entrada 3φAC208V, 3φAC380V; 50/60Hz
Eficiencia de conversión ≥70%

Saída

Potencia de saída 3 kW, 6 kW, 12 kW, 20 kW, 24 kW
Frecuencia de saída 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
Impedancia de saída 50Ω+0j
Estabilidade da frecuencia de saída ±0,005%
Modo de saída Continuo, pulso

Índice de rendemento

Precisión de potencia 4Wor ± 1%
Harmónico -40dBc
Espurio -40dBc
Frecuencia de pulso 100 Hz ~ 20 kHz
Ancho mínimo do pulso 25 μs
Interface de control analóxica, RS-232, Ethernet, EtherCAT etc.

Nota: o produto continúa a innovar e o rendemento continúa a mellorar. Esta descrición de parámetros é só para referencia.

Máis información

Descargar

Ficha técnica da fonte de alimentación RF da serie RPJ
Descargar

Volver ao Centro de solucións de enerxía

Serie RPJFonte de alimentación de RF