RPJ-seeria
RF-toiteallikas

RPJ seeria tugineb küpsele raadiosagedusliku genereerimise tehnoloogiale, et pakkuda klientidele suurema võimsuse, suurema täpsuse ja kiirema reageerimisajaga raadiosageduslikke toiteallikaid. Sellel on sellised funktsioonid nagu faasi seadistamine ja impulsside juhtimine.

Kohaldatavad valdkonnad: fotogalvaanika tööstus, lameekraaniga tööstus, pooljuhtide tööstus, keemiatööstus, labor, teadusuuringud, tootmine jne.

Kohaldatavad protsessid: plasma abil võimendatud keemiline aurustamine-sadestamine (PECVD), plasma aluskeha söövitamine, plasma puhastamine, raadiosageduslik ioonallikas, plasma difusioon, plasma polümerisatsiooni pihustamine, reaktiivne pihustamine jne.

Peamised omadused

● Täieliku digitaalse juhtimise ja ülitäpsete andurite kasutuselevõtt

● Võimaldab saavutada impulssväljundit
● Reaalajas impedantsi võimsuse tuvastamine

● CEX välise signaali sisend, iga faasi täpne juhtimine

Peamised parameetrid

Sisend

Sisendpinge 3φAC208V, 3φAC380V; 50/60Hz
Konversiooni efektiivsus ≥70%

Väljund

Väljundvõimsus 3kW, 6kW, 12kW, 20kW, 24kW
Väljundsagedused 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
Väljundtakistus 50Ω+0j
Väljundsageduse stabiilsus ±0,005%
Väljundrežiim Pidev, impulss

Toimivusindeks

Võimsus 4Wor±1%
Harmooniline -40dBc
Paralleel -40dBc
Impulsi sagedus 100Hz~20kHz
Minimaalne impulsi laius 25 μs
Juhtimisliides Analoog, RS-232, Ethernet, EtherCAT jne.

Märkus: toodet täiustatakse pidevalt ja selle jõudlus paraneb pidevalt. See parameetri kirjeldus on ainult viitamiseks.

Lisateave

Laadi alla

RPJ seeria raadiosagedusliku toiteallika andmeleht
Laadi alla

Tagasi energialahenduste keskusesse

RPJ-seeriaRF-toiteallikas