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Serie RPJ
Fuente de alimentación de RF

La serie RPJ se basa en tecnología de generación de RF madura para proporcionar a los clientes fuentes de alimentación de RF con mayor potencia, mayor precisión y respuesta rápida. La herramienta tiene funciones como ajuste de fase y control de pulso.

Campos aplicables: industria fotovoltaica, industria de pantallas planas, industria de semiconductores, industria química, industria, laboratorio, investigación científica, fabricación, etc.

Procesos aplicables: deposición química en fase de vapor mejorada con plasma (PECVD), grabado de subcuerpos con plasma, limpieza por plasma, fuente de iones de radiofrecuencia, difusión de plasma, pulverización catódica por polimerización de plasma, pulverización catódica reactiva, etc.

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Características principales

  • ● Adopción de control digital completo y sensores de alta precisión
  • ● Capaz de lograr salida de pulso
  • ● Detección de potencia de impedancia en tiempo real
  • ● Entrada de señal externa CEX, control preciso de cada fase

Los parámetros principales

Aporte

  • Voltaje de entrada 3φCA208V,3φCA380V;50/60Hz
  • Eficiencia de conversión ≥70%

Producción

  • Potencia de salida 3kW, 6kW, 12kW, 20kW, 24kW
  • Frecuencia de salida 13,56 MHz, 27,12 MHz, 40,68 MHz, 60 MHz
  • Impedancia de salida 50Ω+0j
  • Estabilidad de frecuencia de salida ±0,005%
  • Modo de salida Continuo, pulso

Índice de rendimiento

  • Precisión de potencia 4Wor±1%
  • Armónico -40dBc
  • Espurio -40dBc
  • Frecuencia de pulso 100 Hz ~ 20 kHz
  • Ancho de pulso mínimo 25μs
  • Interfaz de control Analógica, RS-232, Ethernet, EtherCAT etc.

Nota: El producto se innova continuamente y su rendimiento mejora constantemente. Esta descripción de parámetros es solo de referencia.

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  • Fuente de alimentación RF serie RPJ - Hoja de datos

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